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https://hdl.handle.net/10316/1685
DC Field | Value | Language |
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dc.contributor.advisor | Vieira, Maria Teresa Freire | - |
dc.contributor.author | Ramos, Ana Sofia Figueira | - |
dc.date.accessioned | 2008-12-04T14:20:24Z | - |
dc.date.available | 2008-12-04T14:20:24Z | - |
dc.date.issued | 2002 | en_US |
dc.identifier.citation | Comportamento mecânico e químico de filmes finos do sistema Ti - AI -(M) Coimbra, ed. aut., 2002, 176 p. | - |
dc.identifier.uri | https://hdl.handle.net/10316/1685 | - |
dc.description.abstract | O presente estudo visa a produção e caracterização de filmes finos com base no alumineto de titânio g-TiAl, com um teor de alumínio próximo de 48 % at.. Filmes com 0 Os filmes produzidos foram caracterizados de modo sistemático no estado pós-deposição e após tratamento térmico, nomeadamente no que respeita à sua morfologia e estrutura cristalina recorrendo à microscopia electrónica de varrimento e transmissão e à difracção de raios X. A composição química dos filmes foi previamente determinada por microanálise por sonda electrónica Foram ainda calculadas as tensões residuais dos filmes pela fórmula de Stoney, utilizando o raio da curvatura determinado por varrimento laser. Após estudar as características genéricas dos filmes, foi avaliado o seu comportamento mecânico e químico. A dureza e a ductilidade constituem as propriedades mecânicas abordadas no âmbito da presente dissertação. Os resultados dos ensaios de ultramicrodureza e tracção são discutidos em função da composição química e estrutura dos filmes. O estudo do comportamento à oxidação, efectuado recorrendo à análise termogravimétrica, foi complementado por difracção de raios X e microscopia electrónica de varrimento. Os mecanismos que governam a degradação dos filmes finos submetidos a temperaturas elevadas foram estabelecidos admitindo cinéticas do tipo linear e parabólico. As energias de activação envolvidas no processo de oxidação foram calculadas pela equação de Arrhenius. O estudo efectuado permite concluir que os filmes intermetálicos à base de g-TiAl com pequenas quantidades de prata (1-2 % at.) apresentam, à temperatura ambiente, uma ductilidade superior. Com o aumento do tempo de recozimento é possível aumentar o grão até tamanhos da ordem do micrómetro. Em todos os filmes o estado de tensão é pouco significativo. Portanto, parece ser viável os filmes finos de g-TiAl "simularem" o comportamento dos aluminetos de titânio convencionais. | en_US |
dc.language.iso | por | por |
dc.rights | embargoedAccess | eng |
dc.subject | Ciências dos Materiais | en_US |
dc.subject | Engenharia Mecânica | en_US |
dc.title | Comportamento mecânico e químico de filmes finos do sistema Ti - AI -(M) | en_US |
dc.type | doctoralThesis | en_US |
uc.controloAutoridade | Sim | - |
item.openairetype | doctoralThesis | - |
item.fulltext | Sem Texto completo | - |
item.languageiso639-1 | pt | - |
item.grantfulltext | none | - |
item.cerifentitytype | Publications | - |
item.openairecristype | http://purl.org/coar/resource_type/c_18cf | - |
crisitem.advisor.researchunit | CEMMPRE - Centre for Mechanical Engineering, Materials and Processes | - |
crisitem.advisor.orcid | 0000-0001-9981-3826 | - |
crisitem.author.researchunit | CEMMPRE - Centre for Mechanical Engineering, Materials and Processes | - |
crisitem.author.orcid | 0000-0002-8486-5436 | - |
Appears in Collections: | FCTUC Eng.Mecânica - Teses de Doutoramento |
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