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https://hdl.handle.net/10316/1684
DC Field | Value | Language |
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dc.contributor.advisor | Carvalho, Albano Augusto Cavaleiro Rodrigues de | - |
dc.contributor.author | Louro, Cristina Maria Gonçalves dos Santos | - |
dc.date.accessioned | 2008-12-04T14:19:56Z | - |
dc.date.available | 2008-12-04T14:19:56Z | - |
dc.date.issued | 2000 | en_US |
dc.identifier.citation | Comportamento do sistema W-Si-N: função do teor de silício. Coimbra: [s.n.], 2000, X, 285 p. | - |
dc.identifier.uri | https://hdl.handle.net/10316/1684 | - |
dc.description.abstract | A utilização de materiais compósitos, tipo revestimento/substrato, tem-se revelado como uma das soluções mais eficazes para fazer face às solicitações mecânicas, térmicas e químicas que, em grau crescente, vêm sendo aplicadas aos "Materiais". O presente trabalho insere-se nesta área de investigação e incide no desenvolvimento de revestimentos duros com resistência à oxidação acrescida. O sistema ternário estudado foi o W-Si-N e a técnica utilizada na deposição dos filmes foi a pulverização catódica magnetrão reactiva em corrente contínua. Os revestimentos foram caracterizados no que concerne à composição química, à morfologia e à estrutura. Foi também analisado o seu comportamento mecânico através da avaliação da dureza recorrendo a um equipamento de ultramicroindentação. No caso dos revestimentos com estrutura amorfa, esta caracterização foi ainda efectuada após recozimentos isotérmicos em atmosfera redutora até 1000C. Finalmente, a caracterização do sistema W-Si-N termina com o estudo do comportamento à oxidação em atmosfera de ar na gama de temperaturas 600-950C. Dependendo dos teores de silício e azoto, os revestimentos W-Si-N podiam apresentar estrutura cristalina ou amorfa. Genericamente, quanto maior os teores naqueles elementos tanto maior era a probabilidade de amorfização. Este comportamento foi determinante na dureza dos revestimentos. Os filmes amorfos eram menos duros (20-27GPa) do que os cristalinos (30-45GPa). A resistência à oxidação estava, também, condicionada pelo teor de silício. O melhor comportamento à oxidação, atribuído à formação de uma camada externa passiva de SiO2, foi observado em filmes com teores de silício elevados (filmes amorfos). A cristalização dos revestimentos amorfos W-Si-N parece constituir uma excelente alternativa para alcançar os objectivos propostos. Com efeito, os elevados valores de dureza atingidos após cristalização associados à elevada resistência à oxidação destes filmes, permite esperar tal facto. | en_US |
dc.language.iso | por | por |
dc.rights | embargoedAccess | eng |
dc.subject | Ciências dos Materiais | en_US |
dc.subject | Engenharia Mecânica | en_US |
dc.title | Comportamento do sistema W-Si-N: função do teor de silício. | en_US |
dc.type | doctoralThesis | en_US |
uc.controloAutoridade | Sim | - |
item.fulltext | Sem Texto completo | - |
item.grantfulltext | none | - |
item.languageiso639-1 | pt | - |
item.cerifentitytype | Publications | - |
item.openairetype | doctoralThesis | - |
item.openairecristype | http://purl.org/coar/resource_type/c_18cf | - |
crisitem.author.researchunit | CEMMPRE - Centre for Mechanical Engineering, Materials and Processes | - |
crisitem.author.orcid | 0000-0002-8142-0650 | - |
crisitem.advisor.dept | Faculty of Sciences and Technology | - |
crisitem.advisor.parentdept | University of Coimbra | - |
crisitem.advisor.researchunit | CEMMPRE - Centre for Mechanical Engineering, Materials and Processes | - |
crisitem.advisor.orcid | 0000-0001-8251-5099 | - |
Appears in Collections: | FCTUC Eng.Mecânica - Teses de Doutoramento |
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