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https://hdl.handle.net/10316/4321
Título: | The oxidation behaviour of mixed tungsten silicon sputtered coatings | Autor: | Louro, C. Cavaleiro, A. |
Palavras-chave: | Oxidation resistance; Suicides; W-Si-N films; Tungsten silicide; Sputtering | Data: | 1999 | Citação: | Thin Solid Films. 343-344:(1999) 51-56 | Resumo: | W-Si-N coatings were deposited by sputtering and their chemical composition, structure, thermal and oxidation behaviour were characterised. Si-containing films are essentially amorphous. W69Si31 film crystallises at 750 °C as [alpha]-W and W5Si3 phases whereas no significant structural transformations were observed for W24Si21N55 film up to 1000 °C, In both cases elemental diffusion (Si and N) for the substrate was detected after thermal annealing. These coatings present much better oxidation resistance than W and W45N55 coatings. | URI: | https://hdl.handle.net/10316/4321 | DOI: | 10.1016/S0040-6090(98)01568-5 | Direitos: | openAccess |
Aparece nas coleções: | FCTUC Eng.Mecânica - Artigos em Revistas Internacionais |
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